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微型光譜儀使用中的誤差有什么
微型光譜儀可以檢測(cè)到元素周期表中90%以上的元素，這些元素覆蓋了我國(guó)商用發(fā)展以及合金等應(yīng)用區(qū)域。主要是根據(jù)物質(zhì)的光譜來(lái)鑒別物質(zhì)及確定它的化學(xué)組成和相對(duì)含量，其優(yōu)點(diǎn)是靈敏、方便、快捷。曾通過(guò)光譜分析發(fā)現(xiàn)許多新元素，如銣，銫，氦等。
隨著現(xiàn)代焊接技術(shù)的發(fā)展，對(duì)焊接質(zhì)量檢測(cè)與控制越來(lái)越重要。焊接電弧光譜由于其自身信息量大、信噪比高、介入性小、測(cè)控精度高等特點(diǎn)，在一些場(chǎng)合得到成功應(yīng)用。電弧光譜的應(yīng)用領(lǐng)域包括：電弧防護(hù)、光譜法測(cè)定電弧的溫度場(chǎng)、氣體成分及濃度的測(cè)定與控制等。因此對(duì)于不同焊接參數(shù)下電弧光譜輻射及其變化特點(diǎn)的研究非常重要。
焊接光譜信息的采集和分析系統(tǒng)建議使用高分辨率、多通道光纖光譜儀，波長(zhǎng)范圍200-1100 nm，光譜分辨率(FWHM)最高可達(dá)0.05-0.06 nm，光譜采樣間隔約0.02 nm。一分多光纖保證了光譜信號(hào)采集在時(shí)間和空間上的同步性。
根據(jù)微型光譜儀誤差的性質(zhì)及產(chǎn)生原因，誤差可分為下面幾種：
1.系統(tǒng)誤差的來(lái)源
(1)標(biāo)樣和試樣中的含量和化學(xué)組成不*相同時(shí)，可能引起基體線和分析線的強(qiáng)度改變，從而引入誤差。
(2)標(biāo)樣和試樣的物理性能不*相同時(shí)，激發(fā)的特征譜線會(huì)有差別從而產(chǎn)生系統(tǒng)誤差。
(3)澆注狀態(tài)的鋼樣與經(jīng)過(guò)退火、淬火、回火、熱軋、鍛壓狀態(tài)的鋼樣金屬組織結(jié)構(gòu)不相同時(shí)，測(cè)出的數(shù)據(jù)會(huì)有所差別。
(4)未知元素譜線的重疊干擾。如熔煉過(guò)程中加入脫氧劑、除硫磷劑時(shí)，混入未知合金元素而引入系統(tǒng)誤差。
(5)要消除系統(tǒng)誤差，必須嚴(yán)格按照標(biāo)準(zhǔn)樣品制備規(guī)定要求。為了檢查系統(tǒng)誤差，就需要采用化學(xué)分析方法分析多次校對(duì)結(jié)果。
2.偶然誤差的來(lái)源
與樣品成分不均勻有關(guān)的誤差。因?yàn)楣怆姽庾V分析所消耗的樣品很少，樣品中元素分布的不均勻性、組織結(jié)構(gòu)的不均勻性，導(dǎo)致不同部位的分析結(jié)果不同而產(chǎn)生偶然誤差。主要原因如下：
(1)熔煉過(guò)程中帶入夾雜物，產(chǎn)生的偏析等造成樣品元素分布不均。
(2)試樣的缺陷、氣孔、裂紋、砂眼等。
(3)磨樣紋路交叉、試樣研磨過(guò)熱、試樣磨面放置時(shí)間太長(zhǎng)和壓上指紋等因素。
(4)要減少偶然誤差，就要精心取樣，消除試樣的不均勻性及試樣的鑄造缺陷，也可以重復(fù)多次分析來(lái)降低分析誤差。
3.其他因素誤差
(1)氬氣不純。當(dāng)氬氣中含有氧和水蒸氣時(shí)，會(huì)使激發(fā)斑點(diǎn)變壞。如果氬氣管道與電極架有污染物排不出去，分析結(jié)果會(huì)變差。
(2)室內(nèi)溫度的升高會(huì)增加光電倍增管的暗電流，降低信噪比。濕度大容易導(dǎo)致高壓元件發(fā)生漏電、放電現(xiàn)象，使分析結(jié)果不穩(wěn)定。